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Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition
Gespeichert in:
Personen und Körperschaften: | , , |
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Titel: | Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition/ K. Lehmann, O. Yurchenko, G. Urban |
veröffentlicht: |
London:
RSC Publishing,
2016
Freiburg: Albert-Ludwigs-Universität Freiburg, 2017 |
Umfang: | 1 Online-Ressource (10 Seiten, Illustrationen, Diagramme) |
Sonderdruck aus: | RSC advances ; 6 (2016), 32779-32788 |
ISSN: |
2046-2069 |
DOI: | 10.1039/C6RA02999J |
Format: | E-Book Sonderdruck |
Quelle: |
Verbunddaten SWB Lizenzfreie Online-Ressourcen |
Sprache: | Englisch |