Eintrag weiter verarbeiten
Degradation mechanisms of Ta and Ta?Si diffusion barriers during thermal stressing
Gespeichert in:
Personen und Körperschaften: | |
---|---|
Titel: |
Degradation mechanisms of Ta and Ta?Si diffusion barriers during thermal stressing |
In: | Thin Solid Films, 458, 2004, 1-2, S. 237-245 |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
|
Umfang: | 237-245 |
ISSN: |
0040-6090 |
DOI: | 10.1016/s0040-6090(03)01974-6 |
Format: | E-Article |
Quelle: | Elsevier BV (CrossRef) |
Sprache: | Englisch |