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In-situ ellipsometric studies on epitaxially grown silicon by hot-wire CVD
Gespeichert in:
Personen und Körperschaften: | , |
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Titel: |
In-situ ellipsometric studies on epitaxially grown silicon by hot-wire CVD |
In: | Solid State Communications, 116, 2000, 11, S. 625-629 |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
|
Umfang: | 625-629 |
ISSN: |
0038-1098 |
DOI: | 10.1016/s0038-1098(00)00391-4 |
Format: | E-Article |
Quelle: | Elsevier BV (CrossRef) |
Sprache: | Englisch |