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Influence of silicon ion implantation and post-implantation annealing on the oxidation behaviour of TiAl under thermal cycle conditions
Gespeichert in:
Personen und Körperschaften: | , , , , |
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Titel: |
Influence of silicon ion implantation and post-implantation annealing on the oxidation behaviour of TiAl under thermal cycle conditions |
In: | Materials Science and Engineering: A, 277, 2000, 1-2, S. 229-236 |
veröffentlicht: |
Elsevier BV
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Umfang: | 229-236 |
ISSN: |
0921-5093 |
DOI: | 10.1016/s0921-5093(99)00542-0 |
Format: | E-Article |
Quelle: | Elsevier BV (CrossRef) |
Sprache: | Englisch |