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Photoresist Trimming in Oxygen-Based High-Density Plasmas: Effect of HBr and Cl2 Addition to CF4/O2 Mixtures
Gespeichert in:
Personen und Körperschaften: | , , , , , , |
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Titel: |
Photoresist Trimming in Oxygen-Based High-Density Plasmas: Effect of HBr and Cl2 Addition to CF4/O2 Mixtures |
In: | Industrial & Engineering Chemistry Research, 42, 2003, 24, S. 6080-6087 |
veröffentlicht: |
American Chemical Society (ACS)
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Umfang: | 6080-6087 |
ISSN: |
0888-5885 1520-5045 |
DOI: | 10.1021/ie030059p |
Format: | E-Article |
Quelle: | American Chemical Society (ACS) (CrossRef) |
Sprache: | Englisch |